Canon presenta un nuevo sistema de litografía con un gran campo de exposición de alta resolución para la producción de sensores CMOS de cuadro completo, cámaras XR y más

TOKIO, 13 de marzo de 2023: Canon Inc. anunció hoy que la empresa lanzará el motor paso a paso i-line FPA-5550iX¹ sistema de litografía de estado sólido de proceso frontal que realiza un gran campo de exposición de 50 x 50 mm y una alta resolución de 0,5 micrómetros².

El nuevo sistema cuenta con un gran campo de exposición de 50 x 50 mm y una alta resolución de 0,5 micrómetros que permite una sola exposición de un gran campo con la alta resolución necesaria para producir sensores CMOS de cuadro completo y otros dispositivos en los que progresa una mayor precisión. El nuevo sistema también es capaz de hacer pantallas pequeñas para dispositivos tales como pantallas montadas en la cabeza. También permite la exposición única de alta resolución requerida para fabricar paneles micro-OLED de alto contraste.³ con amplios ángulos de visión, que se espera crezcan como pantallas para dispositivos XR de última generación. Además de los dispositivos de estado sólido, el nuevo FPA-5550iX también puede fabricar pantallas para dispositivos XR de vanguardia, lo que respalda la fabricación de una amplia gama de dispositivos.

El FPA-5550iX utiliza la misma lente de proyección que su predecesor, el FPA-5510iX (lanzado en septiembre de 2015), que permite una alta resolución de 0,5 µm. Con un gran campo de exposición de 50 x 50 mm, el sistema puede lograr una exposición única de alta resolución para sensores CMOS de cuadro completo, pantallas de próxima generación para dispositivos XR y más. Además, los procesos de fabricación se han perfeccionado para garantizar una producción estable y de alta calidad de las lentes de proyección, muchas de las cuales se utilizan en el sistema, para satisfacer la gran demanda esperada de sistemas de litografía de estado sólido.

Además, un nuevo alcance de alineación que puede leer una variedad más amplia de marcas de alineación⁴ ha ampliado la gama de procesos en los que se puede utilizar el FPA-5550iX. Además de la función de “detección de campo claro” para medir la luz directa, se ha agregado una nueva función de “detección de campo oscuro” al alcance de alineación, lo que permite medir la luz dispersa y difractada, lo que permite a los usuarios seleccionar una amplia gama de métodos de medición. La medición con bajo nivel de ruido ha sido posible al expandir el rango de longitudes de onda utilizables mientras se usa un sensor de área para la medición de múltiples píxeles. Con estos avances, el sistema puede detectar y medir marcas de alineación de bajo contraste. Además, el sistema puede seleccionar opcionalmente una longitud de onda infrarroja que puede atravesar el silicio, lo que permite a los usuarios medir la alineación en la parte posterior de la oblea, que es un requisito para la fabricación de sensores retroiluminados. La flexibilidad de la medición de la marca de alineación permite que el sistema se utilice en una variedad de procesos.

Cuando se combina con la plataforma de solución Lithography Plus de Canon (lanzada en septiembre de 2022), la FPA-5550iX brinda a los operadores la capacidad de monitorear el estado del sistema de litografía y realizar análisis, lo que les ayuda a mantener un control de calidad adecuado y tasas de utilización más altas. .

• 1Un sistema de litografía de estado sólido utiliza una lámpara de mercurio de longitud de onda de 365 nm como fuente de luz. 1 nm (nanómetro) es la mil millonésima parte de un metro.
• 21 micrómetro = 1/1,000,000 metro
• 3Proceso para producir pantallas de ultra alta resolución, hechas de obleas de silicio con una calidad de imagen característica de OLED
• 4Marcas colocadas en las obleas para garantizar una estratificación precisa de los patrones de circuito.